特許

J-GLOBAL ID：200903054521845889

電子ビーム描画方法

発明者： 脇本 治
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151387
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：

【要約】【課題】 可変面積型電子ビーム描画方法を実現する。【解決手段】 XあるいはY軸に平行に形成されている直線部分と、この直線部分に接続された斜め線部分の幅が一定のパターンについては、その中央部分を一つの図形のまま表現できるようにしている。すなわち、図7(a)に示した図形では、図7(b)に示すように、網掛けをした中央部分Rを一つの図形で表現できるよう新しいフォーマットを導入するようにしている。このように、中央部分Rを一つの図形として取り扱えば、図7(c)に示すように、この中央部分は同一方向の矩形に展開できることになる。

請求項（抜粋）：

描画データに基づいて描画パターンを分割し、電子ビームの断面形状を分割後の描画図形に応じて矩形に成形し、成形された矩形状の電子ビームを被描画材料の所望位置に投射して所望パターンの描画を行うようにした可変面積型電子ビーム描画装置において、特定の軸方向に平行に形成された直線部分と、この直線部分に接続された斜め線部分を有し、直線部分と斜め線部分の幅が均一な図形について、直線部分を矩形データに、斜め線部分を台形データに展開するに際し、直線部分と斜め線部分の2つの折れ曲がり点の内、内側の折れ曲がり点の座標値で矩形データと台形データに分離して描画を行うようにした電子ビーム描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/30 541 Q

Fターム (9件)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB04 ,  5F056AA04 ,  5F056CA05 ,  5F056CB05 ,  5F056CB22 ,  5F056CD09