特許
J-GLOBAL ID：200903054524421834
抗菌剤の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
足立 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-309363
公開番号（公開出願番号）：特開平6-001707
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：
【要約】【目的】 合成樹脂に混合して使用するに適し、しかも安全性に優れた抗菌剤の製造方法を提供すること。【構成】 酢酸銀、亜硫酸ナトリウム、およびチオ硫酸ナトリウムとの反応物の溶液に、B型シリカゲル[平均粒子径約2000μm]を加えて、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチオスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、温度60°C、約3000Pa以下の減圧下にて溶媒成分を蒸発させ更に乾燥させた。この銀錯塩を担持したシリカゲル、メチルアルコール、テトラエトキシシランおよびイオン交換水を真空乾燥機にいれて、温度60°Cで、テトラエトキシシランの加水分解が終了した後、過剰の水分やアルコール分を温度50°C、約3000Pa以下の減圧下で蒸発させて、シリカコーティングを施し乾燥させ、次いで粉砕し、平均粒子径約60μmの抗菌剤を得た。
請求項（抜粋）：
銀錯塩を含有する溶液に平均粒子径が30〜4000μmのシリカゲルを浸漬して、上記シリカゲルに銀錯塩を担持させ、溶媒成分を除去して真空乾燥した後、シリカゲル表面にコーティングを施し、平均粒子径1〜10μmに粉砕することを特徴とする抗菌剤の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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