特許
J-GLOBAL ID：200903054539806813
インライン型スパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-222978
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078526
出願日： 1993年09月08日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【目的】 比抵抗が低く、表面凹凸が増加したITO膜を形成できるとともに、スループットと歩留りが向上するインライン型スパッタ装置を提供する。【構成】 基板7を保持するキャリア8の通過方向に、キャリア8を取入れる第1室1、カソード23が設けられて基板7に第1層のITO膜を被覆する第2室2、ITO膜に加熱処理を施す第3室3、カソード41が設けられて基板7の第1層のITO膜上に第2層のITO膜を被覆する第4室4及びキャリア8を取り出す第5室5を順次配置してなる。
請求項（抜粋）：
それぞれ独立して減圧した雰囲気が調節できる複数の室を開閉可能なゲートバルブで直列に接続し、基板を保持したキャリアを前記各室内を順次通過させて、前記基板上に被膜を被覆するインライン型スパッタ装置において、前記キャリアの通過方向に、該キャリアを取入れる第1室、カソードが設けられて前記基板に第1層の被膜を被覆する第2室、被膜に加熱処理を施す第3室、カソードが設けられて前記基板の第1層の被膜上に第2層の被膜を被覆する第4室及び前記キャリアを取り出す第5室を順次配置してなることを特徴とするインライン型スパッタ装置。
IPC (3件)：
H01B 13/00 503
, C23C 14/56
, G02F 1/1343
