特許

J-GLOBAL ID：200903054554629740

易粉砕性低酸素窒化ケイ素の製造方法

発明者： 伏井 康人 ,  磯崎 啓
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-253343
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109111
出願日： 1993年10月08日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 比較的安価な金属シリコンを用い、特殊な粉砕工程や湿式の精製処理のような手間のかかる後処理を必要としないで、高比表面積で低酸素の窒化ケイ素粉末を製造すること。【構成】 金属シリコン粉末を含む窒化原料を、窒素10〜75容量%、水素5〜30容量%を含む雰囲気下、反応速度4%/hr以下でしかも窒化率10〜90%においては0.5%/hr以上に制御して窒化させた後、温度1250〜1450°C、水分1000ppm以下、酸素100ppm以下、水素10容量%以上(100%を含む)を含む非酸化性雰囲気中で少なくとも2時間保持することを特徴とする易粉砕性低酸素窒化ケイ素の製造方法。

請求項（抜粋）：

金属シリコン粉末を含む窒化原料を、窒素10〜75容量%、水素5〜30容量%を含む雰囲気下、反応速度4%/hr以下でしかも窒化率10〜90%においては0.5%/hr以上に制御して窒化させた後、温度1250〜1450°C、水分1000ppm以下、酸素100ppm以下、水素10容量%以上(100%を含む)を含む非酸化性雰囲気中で少なくとも2時間保持することを特徴とする易粉砕性低酸素窒化ケイ素の製造方法。