特許

J-GLOBAL ID：200903054555586394

厚膜抵抗体形成用組成物

発明者： 幕田 富士雄
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 菅 直人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-278773
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090006
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【目的】 セラミック基体等に厚膜抵抗体を形成するための組成物に係り、抵抗体をセラミック基体等に形成した後にガラスコート等を行う際の再加熱工程での抵抗値変化が少なく、歩留りよく厚膜抵抗体を形成することのできる厚膜抵抗体形成用組成物を提供することを目的とする。【構成】 AgとPdの少なくとも一方とRuO2 とを含む導電性粉末と、ガラス粉末および有機ビヒクルとを主成分とする厚膜抵抗体形成用組成物において、固形分中AgとPdのいずれか一方または両方を合せて40〜70重量%、RuO2 およびガラスを30〜60重量%含有し、RuO2 とガラスの重量比が2:8〜4:6の範囲内となるようにしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

AgとPdの少なくとも一方とRuO2 とを含む導電性粉末と、ガラス粉末および有機ビヒクルとを主成分とする厚膜抵抗体形成用組成物において、固形分中AgとPdのいずれか一方または両方を合せて40〜70重量%、RuO2 およびガラスを30〜60重量%含有し、RuO2 とガラスの重量比が2:8〜4:6の範囲内であることを特徴とする厚膜抵抗体形成用組成物。

IPC (2件)：

H01C 7/00 ,  H01B 1/16

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-009501
  
• 特開平2-191302
  
• 特開昭53-099499
  
• 特開昭50-122695
  
• 特開平4-012501