特許
J-GLOBAL ID：200903054563233816
初期制御メッシュ導出システム及び初期制御メッシュ導出プログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-083710
公開番号（公開出願番号）：特開2004-295254
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】測定点群に高精度にフィットする、より少数の面数・頂点数を持つ初期制御メッシュを導出する。【解決手段】目標点算出部1により球面投影によるパラメタライゼーションを用いて目標点を算出し、幾何改良部2により初期制御メッシュに対してLoop細分割用の準補間を適用して幾何改良を行い、所定の選択条件を満たす場合には細分割位相改良部5によりLoop細分割による位相改良を行い、この選択条件を満たさない場合には適応的位相改良部6により局所的な細分割による位相改良を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
初期制御メッシュをLoop細分割したときの極限点が収束するべき、測定点群による目標曲面上の目標点を算出する目標点算出手段と、
前記初期制御メッシュに対してLoop細分割用の準補間を行う幾何改良手段と、
幾何改良された初期制御メッシュをLoop細分割したときの近似極限曲面について測定点群に対する誤差を評価する誤差評価手段と、
前記誤差が一定値を超える場合に、所定の選択条件を満たす場合には細分割位相改良を選択し、満たさない場合には適応的位相改良を選択する選択手段と、
細分割位相改良が選択された場合に、初期制御メッシュをLoop細分割して新たな初期制御メッシュとする細分割位相改良手段と、
適応的位相改良が選択された場合に、初期制御メッシュを局所的に細分割して新たな初期制御メッシュとする適応的位相改良手段と、
を有することを特徴とする初期制御メッシュ導出システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
5B050BA09
, 5B050BA13
, 5B050DA10
, 5B050EA28
, 5B050FA01
, 5B080AA14
, 5B080FA15
