特許

J-GLOBAL ID：200903054579222105

処理液供給方法及び処理液供給装置

発明者： 千場 教雄
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-260870
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075704
出願日： 1995年09月13日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【課題】 処理液中に溶け込む加圧用気体を除去し、適正な加圧状態で処理液を供給可能にすること。【解決手段】 処理液としての現像液Dを収容するタンク22と、このタンク22に加圧気体供給管23を介して接続するN2ガス供給源24と、タンク22に供給管25を介して接続する供給ノズル21とを具備する処理液供給装置において、タンク22と供給ノズル21との間に、その流入側及び流出側にそれぞれ第1の切換弁31と第2の切換弁32を介して中間タンク26を介設する。中間タンク26に減圧用切換弁60を介して減圧手段27を接続すると共に、N2ガス供給源24を接続する。

請求項（抜粋）：

処理液を収容するタンクに気体を送入して処理液を送り出し、送り出された処理液を供給手段を介して処理部へ供給する処理液供給方法において、気体の送入により上記タンク内の処理液を中間タンク内に供給する工程と、上記中間タンク内を減圧して処理液中に溶け込む気体を除去する工程と、 上記中間タンク内に気体を送入して処理液を送り出し、上記供給手段から処理部へ供給する工程と、を有することを特徴とする処理液供給方法。

IPC (3件)：

B01J 4/00 103 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (4件)：

B01J 4/00 103 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 Z