特許
J-GLOBAL ID：200903054580060062
炭化物膜被覆電子放射材料およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-200958
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064110
出願日： 1994年08月25日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 小さな仕事関数により電子放射効率が向上して低温での動作が可能となって、少ない電力で効率よく、かつ寿命が著しく向上した炭化物膜被覆電子放射材料。【構成】 タングステンフィラメントの外周面に組成比1<C/Ta<1.2から成る炭化タンタル膜を被覆した炭化物膜被覆電子放射材料。
請求項（抜粋）：
タングステン製電子放射材料の表面に炭化物膜を被覆した炭化物膜被覆電子放射材料において、該炭化物膜は組成比1<C/Ta<1.2から成る炭化タンタル膜であることを特徴とする炭化物膜被覆電子放射材料。
IPC (2件)：
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