特許
J-GLOBAL ID：200903054585837669
化学処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田治米 登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-286691
公開番号（公開出願番号）：特開平6-114311
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年04月26日
要約：
【要約】【目的】 光ディスク原盤用ガラス基板の洗浄装置のように、被処理物に薬液を適用する化学処理装置において、床面積を小さくして装置を小形化し、薬液の管理も容易にし、処理効率を増大させる。【構成】 化学処理装置が、少なくとも第1の槽T1及び第2の槽T2、並びに洗浄液を供給できる第1の主配管C1及び排出用の第2の主配管C2を有し、各槽がそれぞれ第1の主配管C1及び第2の主配管C2にバルブV1、V2、V3、V4を介して接続され、第2の槽T2から第1の主配管C1を介して第1の槽T1へ処理液を送ると共に、第1の槽T1から第2の主配管C2を介して第2の槽T2へ処理液を送るポンプP1が設けられている。光ディスク原盤用ガラス基板の洗浄装置としては、第2の槽T2と並列的に、さらに第3の槽T3を設け、第1の槽T1を被処理物に対して複数の薬液を順次適用する処理槽とし、第2の槽T2及び第3の槽T3をそれぞれ薬液を溜めておく薬液槽とし、第1の主配管C1から洗浄液として水を供給することが好ましい。
請求項（抜粋）：
少なくとも第1の槽及び第2の槽、並びに洗浄液を供給できる第1の主配管及び排出用の第2の主配管を有し、各槽がそれぞれ第1の主配管及び第2の主配管にバルブを介して接続され、第2の槽から第1の主配管を介して第1の槽へ処理液を送ると共に、第1の槽から第2の主配管を介して第2の槽へ処理液を送るポンプが設けられていることを特徴とする化学処理装置。
IPC (5件)：
B05C 3/09
, B05C 9/10
, B08B 3/04
, G11B 7/26 501
, G11B 23/50
