特許

J-GLOBAL ID：200903054590362911

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ル,ピン-ハン ,  ダーメル,ラルフ アール. ,  エイブ,ニコラス カイサー ,  フイスナー,スタンレー エイ. ,  ハンナ,ディニシュ エヌ. ,  クロフェンスタイン,トーマス ジェイ.ジュニア ,  ライオンズ,クリストファー エフ. ,  プラット,マリーナ ,  ラーマン,エム.ダリル
出願人/特許権者： ヘキスト、セラニーズ、コーポレーション ,  インターナショナル、ビジネス、マシーンズ、コーポレーション
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-509200
公開番号（公開出願番号）：特表平8-502132
出願日： 1993年09月24日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】本発明は、感光性成分、分子量分布が少なくとも50%重なり合い、溶解速度が少なくとも2.0のファクターで異なった少なくとも2種類のノボラック樹脂の混合物、および適当な溶剤を含むフォトレジスト組成物、およびその様なフォトレジストの製造法を提供する。また、本発明はその様なフォトレジスト組成物を使用して製造された半導体デバイスおよびその様な半導体デバイスの製造法も提供する。

請求項（抜粋）：

a)フォトレジスト組成物を均一に光増感するのに十分な量の感光性成分、 b)本質的に均一なフォトレジスト組成物を形成するのに十分な量の、同じまたは異なった化学組成を有する少なくとも2種類のノボラック樹脂の混合物を含んでなり、同じ区域に正規化された、成分樹脂の分子量分布が少なくとも50%の重なりを示し、成分樹脂の溶解速度が少なくとも

IPC (3件)：

G03F 7/023 511 ,  C08L 61/06 LND ,  H01L 21/027