特許
J-GLOBAL ID：200903054591647308
鏡面ウエーハ並びにその製造方法及び検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
▲高▼野 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-061186
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226203
出願日： 1992年02月17日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】 潜傷の存在が認められない鏡面ウエーハ、その製造方法及び検査方法を提供する。【構成】 Si単結晶からなる鏡面ウエーハを、50重量%のフッ化水素酸、70重量%の硝酸、及び純酢酸各々の混合容積比で1:(1〜10):(1〜5)の範囲にあるエッチング液に浸漬して鏡面からの深さで0.5〜15μmの範囲をエッチングし、この処理後の鏡面ウエーハの鏡面を微分干渉顕微鏡により観察し、この観察で潜傷が認められなくなるまで研磨材(砥粒)を含まない化学的研磨液及び研磨布とにより仕上研磨を行う。
請求項（抜粋）：
Si(シリコン)単結晶からなる鏡面ウエーハを、50重量%のフッ化水素酸、70重量%の硝酸、及び純酢酸各々の混合容積比で1:(1〜10):(1〜5)の範囲にあるエッチング液に浸漬して前記鏡面ウエーハの鏡面からの深さで0.5〜15μmの範囲内をエッチングし、このエッチング処理を受けた鏡面ウエーハの鏡面を微分干渉顕微鏡により観察し、この観察により潜傷の存在が認められない鏡面ウエーハ。
IPC (5件)：
H01L 21/02
, H01L 21/304 321
, H01L 21/304
, H01L 21/308
, H01L 21/66
