特許
J-GLOBAL ID:200903054601364539
金属汚染評価方法およびFe汚染評価装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 邦夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-176250
公開番号(公開出願番号):特開2002-368053
出願日: 2001年06月11日
公開日(公表日): 2002年12月20日
要約:
【要約】【課題】 洗浄液中の極微量の金属による汚染の評価を行えるようにする。【解決手段】 シリコンウェハーが入れられた槽に、評価対象の純水あるいは薬液をオーバーフローさせながら所定の時間供給し続けるステップ?@と、純水あるいは薬液に浸したシリコンウェハーを乾燥させるステップ?Aと、乾燥させたシリコンウェハーをランプアニール処理するステップ?Bと、ランプアニール処理を行ったウェハーに対して、表面光電圧法でFeの濃度を測定するステップ?Cを実行する。
請求項(抜粋):
ウェハーの洗浄プロセスで用いられる洗浄液の金属汚染を評価する金属汚染評価方法において、ウェハーが入れられた槽に、評価対象の洗浄液をオーバーフローさせながら、所定の時間供給するステップと、前記洗浄液に浸したウェハーを乾燥させるステップと、前記乾燥させたウェハーを熱処理するステップと、前記熱処理を行ったウェハー中の、汚染源となる金属の濃度を測定するステップとを含むことを特徴とする金属汚染評価方法。
IPC (4件):
H01L 21/66
, G01N 27/00
, H01L 21/304 648
, H01L 21/308
FI (4件):
H01L 21/66 L
, G01N 27/00 Z
, H01L 21/304 648 G
, H01L 21/308 G
Fターム (14件):
2G060AA09
, 2G060AA20
, 2G060AD04
, 2G060AE07
, 2G060AE20
, 2G060AF20
, 2G060EB08
, 2G060KA16
, 4M106AA01
, 4M106CA29
, 4M106DH16
, 4M106DH31
, 5F043BB27
, 5F043EE23
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