特許

J-GLOBAL ID：200903054607148510

カチオン性セルロース誘導体の製造方法

発明者： 福井 育生 ,  名倉 茂広 ,  丸山 和政
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-259693
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070501
出願日： 1991年09月11日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】本発明は、グルコース単位当りのヒドロキシアルキル基の置換モル数が 0.1〜 1.0で、同じくメチル基の置換モル数が 1.0〜 2.0であるヒドロキシアルキルメチルセルロースを、苛性ソーダ触媒を用いてグリシジルトリアルキルアンモニウム塩と反応させてカチオン性セルロース誘導体とする際の、有効利用率の高い製造方法を提供する。【構成】この製造方法は、上記ヒドロキシアルキルメチルセルロースを 0.5〜4重量倍の水と5〜20重量倍の第3級ブタノール、アセトンまたはこれらの混合液とからなる混合溶媒中に分散させ、前記セルロースエーテルのグルコース単位当り0.05〜 0.3倍モルの苛性ソーダ触媒の存在下、グリシジルトリアルキルアンモニウム塩と反応させるものである。

請求項（抜粋）：

グルコース単位当りのヒドロキシアルキル基の置換モル数が 0.1〜 1.0で、同じくメチル基の置換モル数が 1.0〜 2.0であるヒドロキシアルキルメチルセルロースを、 0.5〜4重量倍の水と5〜20重量倍の第3級ブタノール、アセトンまたはこれらの混合液とからなる混合溶媒中に分散させ、前記セルロースエーテルのグルコース単位当り0.05〜 0.3倍モルの苛性ソーダ触媒の存在下、グリシジルトリアルキルアンモニウム塩と反応させることを特徴とするカチオン性セルロース誘導体の製造方法。

IPC (3件)：

C08B 15/06 ,  C08B 11/145 ,  C08B 11/193