特許

J-GLOBAL ID：200903054616391141

フォトレジスト製造用の感光性組成物

発明者： エヴェリン プラト ,  マティアス デスタラク
出願人/特許権者： ロディア・シミ
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-502523
公開番号（公開出願番号）：特表2003-536105
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：

【要約】本発明は、フォトレジスト用の新規の感光性組成物及び基板と前記の新規の組成物から得られるフォトレジストとを含む系に関する。このフォトレジスト用の感光性組成物は、疎水性ブロック含有コポリマー(その少なくとも1つのブロックが親水性ブロックを生じさせることができる疎水性ブロックであり、そしてその末端にジチオエステル、チオエーテル-チオン、ジチオカルバメート及びキサンテートから選択される基を含むものである)と、光活性化合物(これは放射線の作用下において活性種を生じさせることができ、この活性種が前記疎水性ブロックと反応して親水性ブロックを生じさせる)とを含む。

請求項（抜粋）：

疎水性ブロック含有コポリマーと光活性化合物とを含むフォトレジスト用感光性組成物であって、 前記コポリマーの少なくとも1つのブロックが親水性ブロックを生じさせることができる疎水性ブロックであり、且つ、該コポリマーが末端にジチオエステル、チオエーテル-チオン、ジチオカルバメート及びキサンテートから選択される基を含み、 前記光活性化合物が、放射線の作用下において活性種を生じ、この活性種が前記疎水性ブロックと反応して前記親水性ブロックを生じさせることができるものである、前記フォトレジスト用感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F293/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F293/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (22件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  4J026HA06 ,  4J026HA11 ,  4J026HA48 ,  4J026HB08 ,  4J026HB11 ,  4J026HB45 ,  4J026HB50 ,  4J026HE01