特許

J-GLOBAL ID：200903054616893317

循環式浴槽水のレジオネラ属菌防除方法

発明者： 石間 智生
出願人/特許権者： アクアス株式会社
代理人 (1件)： 瀧野 秀雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-265590
公開番号（公開出願番号）：特開2003-071463
出願日： 2001年09月03日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：

【要約】【課題】 レジオネラ属菌の生菌数を10個/100mL未満に維持できる循環式浴槽水のレジオネラ属菌防除方法を提供する。【解決手段】 浴槽内の水を取り出して少なくともその一部を濾過装置により濾過したのち再度浴槽内に戻す浴槽水の循環濾過ラインを有する循環式浴槽水のレジオネラ属菌防除方法において、浴槽を入浴に供しないときに、遊離有効塩素濃度で10mg/Lを超える塩素剤を浴槽水に添加する塩素処理を行うとともに、該浴槽水の一部に紫外線を常時照射する紫外線照射処理を行う循環式浴槽水のレジオネラ属菌防除方法。

請求項（抜粋）：

浴槽内の水を取り出して少なくともその一部を濾過装置により濾過したのち再度浴槽内に戻す浴槽水の循環濾過ラインを有する循環式浴槽水のレジオネラ属菌防除方法において、浴槽を入浴に供しないときに、遊離有効塩素濃度で10mg/Lを超える塩素剤を浴槽水に添加する塩素処理を行うとともに、該浴槽水の一部に紫外線を常時照射する紫外線照射処理を行うことを特徴とする循環式浴槽水のレジオネラ属菌防除方法。

IPC (10件)：

C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  A47K 3/00 ,  A61H 33/00 ,  C02F 1/32 ,  F24H 1/00 602 ,  C02F 1/00

FI (10件)：

C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 L ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 560 C ,  A47K 3/00 M ,  A61H 33/00 G ,  C02F 1/32 ,  F24H 1/00 602 L ,  C02F 1/00 L

Fターム (12件)：

3L024CC10 ,  3L024DD34 ,  3L024DD50 ,  4C094AA01 ,  4C094BB15 ,  4C094DD14 ,  4C094GG17 ,  4D037AA09 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037CA16

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-302442   出願人：松下電器産業株式会社