特許
J-GLOBAL ID:200903054630350504

摺動面の加工方法およびシリンダブロック

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-257073
公開番号(公開出願番号):特開2004-090067
出願日: 2002年09月02日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【課題】摺動面のフリクション特性を悪化させず、耐焼き付き性の向上を図り得る摺動面の加工方法およびシリンダブロックを提供する。【解決手段】円周面をなす摺動面31にレーザ光を照射することにより油溜まりとして機能する微細な窪み部32を形成する摺動面の加工方法であり、複数の窪み部を円周方向に沿って形成した後にワークの軸心方向に移動した位置において複数の窪み部を円周方向に沿って形成するときに、ワークの軸心方向に沿って隣り合う円周方向に沿う窪み部の位相がずれるようにレーザ光を照射する。その後に、研削加工により摺動面を仕上げ加工する。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
ワークにおける円周面をなす摺動面にレーザ光を照射することにより油溜まりとして機能する微細な窪み部を形成する摺動面の加工方法において、 複数の窪み部を円周方向に沿って形成した後に前記ワークの軸心方向に移動した位置において複数の窪み部を円周方向に沿って形成するときに、前記ワークの軸心方向に沿って隣り合う円周方向に沿う窪み部の位相がずれるようにレーザ光を照射し、 その後に、研削加工により前記摺動面を仕上げ加工することを特徴とする摺動面の加工方法。
IPC (4件):
B23K26/00 ,  C21D1/09 ,  C21D9/00 ,  F02F1/00
FI (6件):
B23K26/00 D ,  B23K26/00 E ,  C21D1/09 G ,  C21D1/09 H ,  C21D9/00 K ,  F02F1/00 F
Fターム (15件):
3G024AA23 ,  3G024FA06 ,  3G024FA07 ,  3G024GA12 ,  3G024GA16 ,  3G024GA23 ,  4E068AC01 ,  4E068AH00 ,  4E068DA00 ,  4E068DA04 ,  4K042AA25 ,  4K042BA01 ,  4K042BA03 ,  4K042DA01 ,  4K042DB04
引用特許:
審査官引用 (1件)

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