特許
J-GLOBAL ID:200903054647703095

次亜塩素酸塩の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 米澤 明 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-241085
公開番号(公開出願番号):特開平8-104991
出願日: 1994年10月05日
公開日(公表日): 1996年04月23日
要約:
【要約】【目的】 高濃度の次亜塩素酸塩を低電力原単位で得る。【構成】 導電性基体上に10〜45重量%の酸化パラジウムと、15〜45重量%の酸化ルテニウムと、10〜40重量%の二酸化チタンと、10〜20重量%の白金とともに、さらに2〜10重量%のコバルト、ランタン、セリウムおよびイットリウム選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を含有する被膜を有する陽極と、導電性基体上に形成した水素過電圧の低い被膜上を還元防止被膜で覆った陰極とを使用し、塩化物水溶液を無隔膜で電気分解し次亜塩素酸塩を製造する方法。【効果】 高効率の塩化物イオンの酸化と酸化性物質の陰極での還元が抑制でき、効率的に次亜塩素酸塩を得ることができる。
請求項(抜粋):
導電性基体上に10〜45重量%の酸化パラジウムと、15〜45重量%の酸化ルテニウムと、10〜40重量%の二酸化チタンと、10〜20重量%の白金とともに、さらに2〜10重量%のコバルト、ランタン、セリウムおよびイットリウム選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を含有する被膜を有する陽極と、導電性基体上に形成した水素過電圧の低い被膜上を還元防止被膜で覆った陰極とを使用し、塩化物水溶液を無隔膜で電解することを特徴とする次亜塩素酸塩の製造方法。
IPC (2件):
C25B 1/26 ,  C25B 11/08

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