特許
J-GLOBAL ID：200903054675538326
スパツタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-060356
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001373
出願日： 1991年03月25日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 スパッタリング装置のターゲット4表面におけるエロージョン領域を拡大して、ターゲット4の利用率を上げる。【構成】 イオン制御用の磁界を発生する複数個のマグネット対19を自公転機構6で自転しながら公転させ、磁界を自公転軌跡に沿って回転移動させるようにして、ターゲット4の侵食が最も激しいエロージョン部の中心を自公転軌跡に沿って回転移動させ、エロージョン領域を周方向と径方向とへ同時に拡大する。
請求項（抜粋）：
ターゲットを保持するバッキングプレートと、イオン制御用の磁界を発生するマグネットと、このマグネットをターゲットの板面と直交する中心軸の回りに回転駆動する駆動機構とを備えており、マグネットは、異極が隣接してバッキングプレートと対向するマグネット対の複数個からなり、駆動機構は、前記中心軸の回りを回転する複数個の自転ギヤを含む自公転機構からなり、自転ギヤと同行回転する各テーブルに、前記各マグネット対が装着されているスパッタリング装置。
引用特許：
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