特許
J-GLOBAL ID:200903054685601310
導電膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大野 精市
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-223108
公開番号(公開出願番号):特開2001-053308
出願日: 1999年08月05日
公開日(公表日): 2001年02月23日
要約:
【要約】【課題】 透過性、抵抗値などの膜特性変化を極力抑制すると同時に、膜表面の凹凸形状が調節可能な透明導電膜の製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板上への導電膜の成膜において、同一材質の膜を膜厚配分を調節して複数回成膜を行う。
請求項(抜粋):
ガラス基板上への導電膜の成膜において、同一材質の膜を膜厚配分を調節して複数回成膜を行うことを特徴とする導電膜の製造方法。
IPC (4件):
H01L 31/04
, C03C 17/34
, H01B 13/00 503
, H01M 14/00
FI (4件):
H01L 31/04 M
, C03C 17/34 Z
, H01B 13/00 503 B
, H01M 14/00 P
Fターム (24件):
4G059AA08
, 4G059AC06
, 4G059AC11
, 4G059EA02
, 4G059EB02
, 4G059GA01
, 4G059GA02
, 4G059GA04
, 4G059GA12
, 5F051CB27
, 5F051FA03
, 5F051FA19
, 5F051FA22
, 5F051FA24
, 5F051GA03
, 5F051GA06
, 5G323BA03
, 5G323BB02
, 5G323BB03
, 5H032AA06
, 5H032BB10
, 5H032EE07
, 5H032EE18
, 5H032HH04
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平1-176246
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特開昭61-216489
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特開昭62-198169
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