特許
J-GLOBAL ID:200903054691302499

酸化錫膜のエッチング方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-293278
公開番号(公開出願番号):特開平8-144098
出願日: 1994年11月28日
公開日(公表日): 1996年06月04日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、基材表面上に形成された酸化錫膜を高精度で、容易にエッチングするための方法及び装置を提供することにある。【構成】 本発明の酸化錫膜のエッチング方法は、基板表面上に形成された酸化錫膜のエッチング方法において、エッチング液として酸溶液、アルカリ溶液、アルカリ金属塩溶液またはアンモニウム塩溶液を使用し、交流電解または直流陰極電解エッチングを行うことを特徴とする。
請求項(抜粋):
基板表面上に形成された酸化錫膜のエッチング方法において、エッチング液として酸溶液、アルカリ溶液、アルカリ金属塩溶液またはアンモニウム塩溶液を使用し、交流電解または直流陰極電解エッチングを行うことを特徴とする酸化錫膜のエッチング方法。
IPC (5件):
C25F 3/02 ,  C25F 7/00 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 ,  H05K 3/07
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭62-290900
  • 太陽電池
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-349589   出願人:キヤノン株式会社
  • 特開昭63-171900

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