特許
J-GLOBAL ID：200903054710220911
遮光膜を有する基材およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-025458
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242596
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【構成】基材上に、遮光膜、光反射防止膜の順に形成された薄膜であって、該光反射防止膜が置換または非置換アセチレンの重合体を含有することを特徴とする薄膜。【効果】本発明によれば、優れた反射防止性能を有する薄膜が容易に形成できる。
請求項（抜粋）：
基材上に、遮光膜と、光反射防止膜とをこの順に有する基材であって、該光反射防止膜が置換または非置換のアセチレンの重合体を含有することを特徴とする遮光膜を有する基材。
IPC (2件)：
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