特許
J-GLOBAL ID:200903054714248462

フロースルーサンプリングセルおよびその使い方

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-503772
公開番号(公開出願番号):特表平11-508360
出願日: 1996年06月07日
公開日(公表日): 1999年07月21日
要約:
【要約】フロースルー型のサンプリングセルおよびこのようなサンプリングセルの使い方。サンプリングセルはシリコンウェハのエッチングによって製造するのが好ましい。これは特に、分析流の連続ピコボリュームサンプリングに有用である。圧力パルス発生手段(9)が流路(3)中へ直接圧力パルスを発生する。流路(3)が第一の構造体(1)中の第一の槽(4)および第二の構造体(2)中の第二の槽(5)によって形成されていることが好ましい。第一の実施の形態において、圧力パルス発生手段(9)は電気機械力、磁気ひずみ力または静電力によって作用する少なくとも一つの圧電要素および/または装置および/または熱膨張によって作用する装置を備えている。フロースルーサンプリングセル中の液体とフロースルーセルから放出されるサンプルが送られる物体の間に電位差を確立することにより、サンプルをフロースルーサンプリングセルから送る方法。表面のコーティング、特に生体特異性表面を達成するため、連続した液体流からサンプルを抽出するため、規定数のサンプルを収集することにより精確な量のサンプルを抽出するため、または電気泳動、特にキャピラリ電気泳動用、または通電クロマトグラフィ用にサンプルを射出するためのフロースルーサンプリングセルの使い方。
請求項(抜粋):
圧力パルス発生手段(9)と、少なくとも一つの流入口(7)、少なくとも一つの流出口(8)および少なくとも一つのサンプル放出オリフィス(6)を有する流路(3)とを備えているフロースルーサンプリングセルにおいて、圧力パルス発生手段(9)が流路(3)中へ直接圧力パルスを発生することを特徴とするフロースルーサンプリングセル。
IPC (5件):
G01N 1/00 101 ,  G01N 27/447 ,  G01N 27/62 ,  G01N 30/16 ,  G01N 35/10
FI (5件):
G01N 1/00 101 K ,  G01N 27/62 F ,  G01N 30/16 Z ,  G01N 35/06 A ,  G01N 27/26 321 Z
引用特許:
審査官引用 (2件)

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