特許
J-GLOBAL ID：200903054717961550
光ディスクの製造方法およびその製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-143766
公開番号（公開出願番号）：特開2007-095248
出願日： 2006年05月24日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：
【課題】気泡の発生を確実に抑え、安定して高品質の光ディスクを提供できる、光ディスク製造方法および製造装置を提供する。 【解決手段】基板1上には、UVレジン2を平坦塗布し、ほぼ真空状態と、大気圧または圧縮空気による強制加圧との圧力差を利用して、基板1に形成された中間層であるUVレジン2に対して、スタンパ5を押し付ける。その後、紫外線照射器Uを用いて、紫外線をUVレジン2に対して照射することによって、UVレジン2を硬化する。以上により中間層であるUVレジン2上に凹凸を形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板の一面上に積層された樹脂層に情報記録層を形成する光ディスクの製造方法であって、
上記基板の一面上に上記樹脂層を塗布する工程と、
上記樹脂層の一面とスタンパの凹凸が形成された一面とがほぼ平行に対向するように、上記基板と上記スタンパとをチャンバに配置する工程と、
上記基板と上記スタンパとの対向状態を保持したまま、上記チャンバをほぼ真空状態とする工程と、
上記チャンバを上記ほぼ真空状態から大気圧以上にすると共に、上記基板と上記スタンパとを重ね合わせ、上記スタンパを上記ほぼ真空状態の圧力と上記大気圧以上の圧力との差圧でもって加圧することによって、上記基板と上記スタンパとを貼り合わせ、上記凹凸を上記樹脂層に対して転写する工程と、
上記凹凸が転写された樹脂層を硬化させる工程と
からなる光ディスクの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
5D121AA01
, 5D121DD06
, 5D121DD07
, 5D121EE22
, 5D121EE24
, 5D121GG02
, 5D121GG28
