特許
J-GLOBAL ID:200903054727653366

研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 史旺 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-237930
公開番号(公開出願番号):特開2001-062702
出願日: 1999年08月25日
公開日(公表日): 2001年03月13日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、光学素子,金型等の被加工物を研磨するための研磨装置に関し、硬質ポリシャのポリシャ面を、被加工物に均一の圧力で接触させることを目的とする。【解決手段】 一面に硬質ポリシャが固定される研磨工具の他面を、支持手段を介して支持体に支持してなる研磨装置において、前記支持手段は、前記研磨工具の異なる位置に球面軸受けを介して伸縮可能に連結され、連結部に圧力を作用可能な3個以上の支持機構により構成されていることを特徴とする。
請求項(抜粋):
一面に硬質ポリシャが固定される研磨工具の他面を、支持手段を介して支持体に支持してなる研磨装置において、前記支持手段は、前記研磨工具の異なる位置に球面軸受けを介して伸縮可能に連結され、連結部に圧力を作用可能な3個以上の支持機構により構成されていることを特徴とする研磨装置。
Fターム (6件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA12 ,  3C058AA16 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01

前のページに戻る