特許

J-GLOBAL ID：200903054729714710

酸分解性高分子化合物の合成方法

発明者： 久保田 繁 ,  笹原 敦子 ,  熊田 輝彦 ,  田中 祥子 ,  堀辺 英夫 ,  肥塚 裕至
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-273879
公開番号（公開出願番号）：特開平5-112606
出願日： 1991年10月22日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【目的】 高精度の微細パターンを形成するために使用する半導体素子製造用のレジストに用いる酸分解性高分子化合物を合成する方法を提供する。【構成】 アルカリ可溶性の高分子化合物を、アルカリ可溶性の高分子と、酸により分解される保護基を与える反応試薬との反応で合成するにあたり、前記酸により分解される保護基を与える反応試薬に対して、0.05〜10モル%のピリジン化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする。【効果】 上記酸分解性高分子化合物の純度を著しく向上させることができる。

請求項（抜粋）：

半導体素子製造用レジストに用いるアルカリ可溶性を与える官能基の5〜50%が酸により分解される保護基で保護されているアルカリ可溶性の高分子化合物を、アルカリ可溶性の高分子と、酸により分解される保護基を与える反応試薬との反応で合成するにあたり、前記酸により分解される保護基を与える反応試薬に対して、0.05〜10モル%のピリジン化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする酸分解性高分子化合物の合成方法。

IPC (3件)：

C08F 8/00 MHZ ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027