特許

J-GLOBAL ID：200903054731026570

粒子分析装置用光学系、及びそれを用いた粒子分析装置

発明者： 田端 誠一郎
出願人/特許権者： シスメックス株式会社
代理人 (1件)： 西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-209263
公開番号（公開出願番号）：特開2008-032659
出願日： 2006年07月31日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】小型化された粒子分析装置用光学系、及びそれを用いた粒子分析装置を提供する。【解決手段】本発明の粒子分析装置用光学系は、光源と、光源からの光を、フローセルを通過する被検粒子に照射する照射光学系と、前記被検粒子からの散乱光を受光する光センサと、光源から光センサに入射する直接光を遮断する遮光部材と、前記散乱光を前記光センサに入射させる集光レンズと、を備え、前記照射光学系は、フローセルを通過する被検粒子に光源からの光を集光する第1焦点と、前記集光レンズと光センサとの間の位置に光源からの光を集光する第2焦点とを形成し、前記遮光部材が、前記第2焦点の位置に配置される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

光源と、 光源からの光を、フローセルを通過する被検粒子に照射する照射光学系と、 前記被検粒子からの光を受光する光センサと、 光源から光センサに入射する直接光を遮断する遮光部材と、 前記被検粒子からの光を前記光センサに入射させる集光レンズと、 を備え、 前記照射光学系は、フローセルを通過する被検粒子に光源からの光を集光する第1焦点と、前記集光レンズと光センサとの間の位置に光源からの光を集光する第2焦点とを形成し、前記遮光部材が、前記第2焦点の位置に配置される、粒子分析装置用光学系。

IPC (3件)：

G01N 15/14 ,  G01N 21/53 ,  G01N 21/64

FI (4件)：

G01N15/14 P ,  G01N15/14 C ,  G01N21/53 Z ,  G01N21/64 Z

Fターム (33件)：

2G043AA06 ,  2G043BA16 ,  2G043CA04 ,  2G043DA05 ,  2G043EA01 ,  2G043EA13 ,  2G043EA14 ,  2G043HA01 ,  2G043HA09 ,  2G043HA15 ,  2G043JA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01 ,  2G043LA02 ,  2G043NA05 ,  2G059AA10 ,  2G059BB13 ,  2G059DD12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE07 ,  2G059EE11 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ07 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK01 ,  2G059KK02 ,  2G059MM09 ,  2G059PP04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特公昭63-51268号公報
  

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-075640
  
• フローサイトメータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-094878   出願人：シスメックス株式会社
• 特開平4-184241
  
• 特開昭62-008038