光ディスク及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-186474
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031012
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】大面積に屈折率が均一な所定膜厚のVO2 膜を再現性良く形成して、光スポット系を実質的に縮小するようにした光ディスクとその製造方法とを提供する。【構成】透明基板1と、この透明基板1の表面に形成したタンタル(Ta)或いはチタン(Ti)から成る下地層6と、温度に関して可逆的に金属-非金属転移を示すバナジウム酸化物薄膜2と、反射膜3とをこの順に積層した光ディスクである。タンタル或いはチタンから成る下地層6を設けることで、優れた表面平滑性を有するVO2 薄膜を大面積に再現性良く成膜できるようになる。

請求項（抜粋）：

少なくとも、透明基板と、金属-非金属転移を示すバナジウム酸化物薄膜と、反射膜とをこの順に設けた光ディスクにおいて、前記透明基板と前記金属-非金属転移を示すバナジウム酸化物薄膜との間にタンタル或いはチタンから成る下地層を有することを特徴とする光ディスク。

IPC (4件)：

G11B 7/24 536 , G11B 7/24 511 , B41M 5/26 , G11B 7/26 531

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