ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-086119
公開番号（公開出願番号）：特開2003-280204
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(B)特定の構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(B)下記一般式(I)〜(III)で表される繰り返し単位の少なくとも1種と、下記一般式(IV)で表される繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】【化2】R1は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表す。X1は、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。X2は、酸の作用により分解する基を表す。R3及びR4は、酸の作用により脱離する基を表す。mは、0又は1を表す。R11〜R16は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子又はフルオロアルキル基を表す。但し、R11〜R16は、全てが水素原子となることはない。Qは水酸基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はニトロ基を表す。nは0〜5の整数を示す。nが2〜5の場合、Qは同じでも異なっていてもよい。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F212/04 , C08F220/10 , C08F232/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F212/04 , C08F220/10 , C08F232/00 , H01L 21/30 502 R

Fターム (37件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AB07S , 4J100AL24R , 4J100AL26R , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA04S , 4J100BA07P , 4J100BA10S , 4J100BA15Q , 4J100BA22P , 4J100BA22S , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC07Q , 4J100BC07R , 4J100BC43R , 4J100BC53S , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

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