特許
J-GLOBAL ID：200903054761101771
ケーソンの沈設方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 朔生 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-330117
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158378
出願日： 1994年12月06日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】ケーソン1の周囲に発生した余掘り余掘り間隙4が、周囲の土砂や地盤に影響を及ぼすことがない、ケーソン1の沈設方法を提供することを目的とする。【構成】ケーソン1の沈下に際して、ケーソン1の外周面に沿って高分子吸水性樹脂6の層を形成し、ケーソン1着底後に、この高分子吸水性樹脂6の層を硬化材7の層に置き換えて行う、ケーソン1の沈設方法を特徴としたものである。
請求項（抜粋）：
ケーソンの沈下に際して、ケーソンの外周面に沿って、高分子吸水性樹脂の層を形成し、ケーソン着底後に、この高分子吸水性樹脂の層を、硬化材の層に置き換えて行う、ケーソンの沈設方法
IPC (2件)：
前のページに戻る
