特許
J-GLOBAL ID:200903054769075141

水性リンス組成物及びそれを用いた方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中林 幹雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-512904
公開番号(公開出願番号):特表2001-517728
出願日: 1998年09月22日
公開日(公表日): 2001年10月09日
要約:
【要約】本発明は、(1)水;(2)少なくも1種類の水溶性有機酸;および(3)少なくも1種類の水溶性界面活性剤を含んでなり、約2.0ないし約5.0の範囲のpHを有する水性ポスト-ストリップリンス組成物に向けられている。本発明は上の組成物を用いて半導体基板から残留物を除去する方法にも向けられている。
請求項(抜粋):
水と; 少なくも1種類の水溶性有機酸と; 少なくも1種類の水溶性界面活性剤;とを含んでなり、約2.0ないし約5.0のpHを有する水性リンス組成物。
IPC (5件):
C11D 1/68 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/20 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304
FI (5件):
C11D 1/68 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/20 ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 647 B
Fターム (9件):
4H003AB05 ,  4H003AB39 ,  4H003AC08 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EB07 ,  4H003EB08 ,  4H003ED02 ,  4H003FA28
引用特許:
審査官引用 (3件)

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