特許

J-GLOBAL ID：200903054787135682

水素吸蔵合金粉末の表面処理方法

発明者： 木下 恭一 ,  牟田 光治 ,  砥綿 真一 ,  大矢 豊 ,  山川 俊輔
出願人/特許権者： 株式会社豊田自動織機製作所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-025522
公開番号（公開出願番号）：特開平11-222601
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】二ッケルリッチ層形成処理におけるプロセス条件の変動にもかかわらず最適な量のニッケルリッチ層を得ることができる水素吸蔵合金粉末の表面処理方法の提供。【解決手段】ニッケルリッチ層形成処理中の水素吸蔵合金粉末の表面状態の変化に応じて変化する水素吸蔵合金粉末の磁気特性を検出し、前記磁気特性が所定値となった時点で前記処理を終了する、ニッケルを含む水素吸蔵合金粉末を処理して、前記水素吸蔵粉末の表面にニッケルリッチ層を形成する、ニッケルリッチ層形成処理を行う、水素吸蔵合金粉末の表面処理方法。

請求項（抜粋）：

ニッケルを含む水素吸蔵合金粉末を処理して前記水素吸蔵合金粉末の表面にニッケルリッチ層を形成するニッケルリッチ層形成処理を行う水素吸蔵合金粉末の表面処理方法において、前記ニッケルリッチ層形成処理中の前記水素吸蔵合金粉末の表面状態の変化に応じて変化する前記水素吸蔵合金粉末の磁気特性を検出し、前記磁気特性が所定値となった時点で前記処理を終了することを特徴とする水素吸蔵合金粉末の表面処理方法。

IPC (3件)：

B22F 1/00 ,  H01M 4/26 ,  H01M 4/38

FI (3件)：

B22F 1/00 A ,  H01M 4/26 J ,  H01M 4/38 A