特許

J-GLOBAL ID：200903054794080133

ネガ型レジスト組成物及びレジスト像の製造法

発明者： 佐々木 守 ,  中野 一 ,  橋本 通晰 ,  内野 正市 ,  上野 巧
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-098720
公開番号（公開出願番号）：特開平8-292561
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【目的】 感光性あるいは感放射線性が高く、かつ解像度に優れたネガ型レジスト組成物及びこれを用いたレジスト像の製造法を提供すること。【構成】 アルカリ水溶液可溶性樹脂、ブロモメチルアリールケトン又はジブロモメチルアリールケトン、アミノ樹脂及び下記の一般式(I)【化1】〔式中、X、Y及びZはそれぞれ独立にアルキル基、水素原子、塩素原子又は臭素原子を表す〕で示されるフェノール化合物を含むネガ型レジスト組成物及び該組成物を基板上に塗布し、乾燥後、露光又は活性放射線照射を行い、加熱し、次いでアルカリ水溶液で現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

アルカリ水溶液可溶性樹脂、ブロモメチルアリールケトン又はジブロモメチルアリールケトン、アミノ樹脂及び一般式(I)【化1】〔式中、X、Y及びZはそれぞれ独立にアルキル基、水素原子、塩素原子又は臭素原子を表す〕で示されるフェノール化合物を含むネガ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/30 502 R