シリコーン樹脂組成物及びこれを用いたケイ酸ガラス薄膜の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大垣孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-231004
公開番号（公開出願番号）：特開平6-080879
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：

【要約】【目的】塗布性を有しかつ従来より硬化特性及び硬化後の熱的安定性に優れるケイ酸ガラスが得られるシリコーン樹脂組成物を提供する。【構成】下記(1)式で示されるポリ(シロキサン)1.0gと、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネ-ト20mgとを5mlのメチルイソブチルケトンに溶解し塗布溶液とする。これを回転塗布法により基板上に塗布して薄膜を得る。この試料を大気中で160°Cの温度で加熱しながら高圧水銀ランプからの紫外線を10分間照射する。【化1】

請求項（抜粋）：

酸の作用で切断可能なC-O結合を全部又は一部の側鎖及び全部の末端に有するポリ(シロキサン)と、放射線の作用により酸を発生する酸発生物質とを含むことを特徴とするシリコーン樹脂組成物。

IPC (7件)：

C08L 83/04 LRT , C03C 3/04 , C08K 5/00 , G03F 7/004 503 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027 , H01L 21/312

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-070662
特開平4-159322
特開平4-070662

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