リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれにより製造されたデバイス

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-196130
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268237
出願日： 2003年06月09日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】単一のアライメントマークを使用して、および/または非対称アライメントマークを調整して、アライメント位置を捕捉することの可能な改良されたアライメントシステムを提供する。【解決手段】アライメントシステムにおいて、2つの重なり合う、相対回転されたアライメントマーカの像を作り出す自己参照干渉計を用いる。検出器が像のフーリエ変換が干渉させられる瞳面における強度を検出する。干渉された次数における強度変化として示される、2つの像の回折次数間の位相差から位置情報が得られる。回折次数のどちらかのサイドの2つの位置で強度を測定することにより非対称性もまた計測可能である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、180°相対回転されるアライメントマークの2つの重なり合う像を投影する自己参照干渉計を備えたアライメントシステムとにより構成されるリソグラフィ投影装置において、該アライメントシステムは、該自己参照干渉計の瞳面における複数の異なる位置にて光強度を検出するための検出システムをさらに備えていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G01B9/02 , G01B11/00 , G03F9/00

FI (5件)：

H01L21/30 525W , G01B9/02 , G01B11/00 G , G03F9/00 A , H01L21/30 525X

Fターム (37件)：

2F064AA04 , 2F064FF01 , 2F064GG02 , 2F064GG22 , 2F064GG23 , 2F064GG38 , 2F064GG49 , 2F064HH01 , 2F064HH02 , 2F064HH05 , 2F064HH07 , 2F064JJ15 , 2F065AA20 , 2F065BB27 , 2F065CC20 , 2F065FF48 , 2F065FF51 , 2F065GG04 , 2F065HH08 , 2F065JJ01 , 2F065JJ02 , 2F065JJ18 , 2F065JJ25 , 2F065LL02 , 2F065LL30 , 2F065LL37 , 2F065LL42 , 2F065LL46 , 2F065MM11 , 2F065QQ16 , 2F065QQ17 , 2H097KA03 , 2H097KA15 , 2H097KA20 , 2H097KA29 , 5F046FC04 , 5F046FC05

引用特許：

審査官引用 (1件)

アライメントセンサ、アライメントセンサシステム、イメージ回転形干渉計及びアライメントマーク検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-121418 出願人：エスヴイジーリトグラフイーシステムスインコーポレイテツド

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