特許

J-GLOBAL ID：200903054848888425

酸化物膜の製造方法

発明者： 石沢 均
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-352800
公開番号（公開出願番号）：特開2000-178792
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】本発明は金属基板の表面に、見かけの面積の数百倍から千倍程度に増加した表面積をもつ多孔質酸化チタン膜を低コストで形成する方法を提供すること、さらには、この多孔質酸化膜が高い活性をもつようにするための製造方法を提供する。【解決手段】金属基板を用意し、該金属基板の少なくとも一方の面を陽極酸化し、陽極酸化膜を形成する工程と、該陽極酸化膜上に酸化物微粒子を含む液体若しくは金属アルコキシド又は金属塩の溶液を塗布し、酸化膜を形成する工程と、からなる酸化物膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

金属基板を用意し、該金属基板の少なくとも一方の面を陽極酸化し、陽極酸化膜を形成する工程と、該陽極酸化膜上に酸化物微粒子を含む液体若しくは金属アルコキシド又は金属塩の溶液を塗布し、酸化膜を形成する工程と、からなる酸化物膜の製造方法。

IPC (5件)：

C25D 11/26 302 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/24 301 ,  C23C 18/12 ,  C25D 11/00 301

FI (5件)：

C25D 11/26 302 ,  B05D 3/10 B ,  B05D 7/24 301 Z ,  C23C 18/12 ,  C25D 11/00 301

Fターム (19件)：

4D075BB67X ,  4D075BB79Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DC22 ,  4D075EA02 ,  4D075EC01 ,  4D075EC08 ,  4K022AA02 ,  4K022BA15 ,  4K022BA22 ,  4K022BA23 ,  4K022BA25 ,  4K022BA26 ,  4K022BA28 ,  4K022BA33 ,  4K022CA29 ,  4K022DA06