特許
J-GLOBAL ID：200903054851253562
熱処理のためのレーザ走査装置および方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
布施 行夫
, 井上 一
, 大渕 美千栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-013256
公開番号（公開出願番号）：特開2005-244191
出願日： 2005年01月20日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】走査レーザ放射線を用いて基板を熱処理するための装置および方法を提供する。【解決手段】基板の領域を熱処理する装置は、連続する第1の放射線ビームと、前記基板の領域を加熱できる波長とを供給できる連続放射源と、第1の放射線ビームを受け、前記基板上に像を形成する第2の放射線ビームを第1の放射線ビームから形成する光学系と、前記基板に放射線を向け返すように配置されたリサイクル光学系、前記基板を支持し、前記光学系からの第1の放射線パルスと前記リサイクル光学系からの第2の放射線パルスとによって前記領域を熱処理するために十分な温度に前記リサイクル光学系からの第2の放射線パルスとによって前記領域を熱処理するにために十分な温度に前記領域を加熱するように、前記像に対して前記基板を走査するステージと、を含む。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板の領域を熱処理する装置であって、
連続する第1の放射線ビームと前記基板の領域を加熱できる波長とを供給することができる連続放射線源と、
前記第1の放射線ビームを受け、前記基板において像を形成する第2の放射線ビームを前記第1の放射線ビームから形成する光学系と、
前記基板によって反射された放射線を受け、前記反射放射線をリサイクル放射線ビームとして前記基板に向け返すように配置されたリサイクル光学系と、
前記基板を支持し、前記光学系からの第1の放射線パルスと前記リサイクル光学系からの第2の放射線パルスとによって前記領域を熱処理するために十分な温度に前記領域を加熱するように、前記像に対して前記基板を走査するステージと、
を含む、装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/268 J
, H01S3/00 B
