特許

J-GLOBAL ID：200903054853097118

基板処理装置

発明者： 油谷 幸則 ,  池田 和人
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 宮本 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-252477
公開番号（公開出願番号）：特開平10-079410
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】省スペース化、低コスト化を可能とする基板処理装置を提供する。【解決手段】ボート40および反応室50とカセット投入口35との間にカセット搬送兼ウェーハ移載機20を備える。カセット搬送兼ウェーハ移載機20は、カセット搬送機21とウェーハ移載機23とを備え、カセットの搬送はカセット搬送機21で行い、ウェーハの移載はウェーハ移載機23で行う。カセット搬送兼ウェーハ移載機20は、カセット搬送機能とウェーハ移載機能との2つの機構を合わせ持っているので、移載機が一つですみ、そして上下軸もカセット搬送兼ウェーハ移載機上下軸10を一本設ければよくなるので、その分、省スペース化、低コスト化が図れる。

請求項（抜粋）：

基板を処理する基板処理部と、カセットを搬入および/または搬出するカセット投入部と、前記基板処理部と前記カセット投入部との間に配設された移載機とを備える基板処理装置において、前記移載機が前記基板と前記カセットの両方を搬送可能な機構を備えていることを特徴とする基板処理装置。