特許

J-GLOBAL ID：200903054854745040

光学ガラス、それを用いた精密プレス成形用素材および光学部品

発明者： 佐藤 浩一
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 中村 静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-107676
公開番号（公開出願番号）：特開2000-016831
出願日： 1999年04月15日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】 高屈折率特性および低分散特性を有し、かつ屈伏点TSおよび液相温度L.Tが共に低いものを得ることが容易な光学ガラスを提供する。【解決手段】 重量%で、B2O3 25〜42%、La2O3 14〜30%、Y2O3 2〜13%、SiO2 2〜20%、Li2O 2%より多く9%以下、CaO 0.5〜20%、ZnO 2〜20%、Gd2O3 0〜8%、ZrO20〜8%、Gd2O3+ZrO2 0.5〜12%を含有し、かつこれらの成分の合計含有量が90%以上であり、さらに、場合により、Na2O 0〜5%、K2O 0〜5%、MgO 0〜5%、SrO 0〜5%、BaO 0〜10%、Ta2O5 0〜5%、Al2O3 0〜5%、Yb2O3 0〜5%、Nb2O5 0〜5%、As2O3 0〜2%およびSb2O3 0〜2%を含有する光学ガラスである。

請求項（抜粋）：

必須成分として、酸化ホウ素、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化ケイ素、酸化リチウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、および酸化ガドリニウムと酸化ジルコニウムの2成分のうちの少なくとも一方を含有し、これらの必須成分それぞれの含有量が、重量%で、酸化ホウ素25〜42%、酸化ランタン14〜30%、酸化イットリウム2〜13%、酸化ケイ素2〜20%、酸化リチウム2%より多く9%以下、酸化カルシウム0.5〜20%、酸化亜鉛2〜20%、酸化ガドリニウム0〜8%、酸化ジルコニウム0〜8%、酸化ガドリニウムと酸化ジルコニウムの合計0.5〜12%であって、これらの必須成分の合計含有量が90%以上であり、かつ任意成分として、重量%で、酸化ナトリウム0〜5%、酸化カリウム0〜5%、酸化マグネシウム0〜5%、酸化ストロンチウム0〜5%、酸化バリウム0〜10%、酸化タンタル0〜5%、酸化アルミニウム0〜5%、酸化イッテルビウム0〜5%、酸化ニオブ0〜5%、酸化ヒ素0〜2%および酸化アンチモン0〜2%を含有することを特徴とする光学ガラス。

IPC (3件)：

C03C 3/068 ,  G02B 1/00 ,  C03B 11/00

FI (3件)：

C03C 3/068 ,  G02B 1/00 ,  C03B 11/00 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-221338
  
• 光学ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-199210   出願人：株式会社ニコン