特許
J-GLOBAL ID：200903054862731920
収差計測方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-264660
公開番号（公開出願番号）：特開平6-117831
出願日： 1992年10月02日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 投影露光装置の投影光学系の非対称収差を短時間に自己計測する。【構成】 ウエハ11上のショット領域34-1,34-2にフォーカス位置を固定して、主尺マーク像28XP,30XPを露光した後に、ショット領域34-1,34-2でそれぞれフォーカス位置を変えて副尺マーク像32XPを露光する。主尺マーク像28XP,30XPと副尺マーク像32XPとの位置ずれ量Δx1をフォーカス位置Fの関数で近似し、この関数中のフォーカス位置Fについて対称な成分の係数を求める。予め算出してあった係数とコマ収差量との関係より、コマ収差量を求める。
請求項（抜粋）：
マスクパターンを照明する照明光学系と、前記マスクパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して前記感光基板を前記投影光学系の光軸に垂直な面内及び前記投影光学系の光軸方向で位置決めするステージとを有する投影露光装置の前記投影光学系の非対称収差の計測方法において、前記感光基板の前記投影光学系の光軸方向の位置であるフォーカス位置を一定にして、前記マスクパターンとしての第1の計測パターンの像を前記感光基板上の複数のショット領域に投影する第1工程と、前記感光基板の前記投影光学系の光軸方向の位置であるフォーカス位置を変えて、前記マスクパターンとしての第2の計測パターンの像を前記感光基板上の前記複数のショット領域に投影する第2工程と、前記第1の計測パターンの像と前記各フォーカス位置で投影された前記第2の計測パターンの像との位置ずれ量を求める第3工程と、該位置ずれ量を、前記フォーカス位置の関数で近似する第4工程とを有し、該関数の前記フォーカス位置に関して対称な成分から、前記投影光学系の前記第1の計測パターン及び第2の計測パターンが投影された位置での非対称収差を求める事を特徴とする収差計測方法。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G03F 9/00
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 G
, H01L 21/30 311 L
