特許

J-GLOBAL ID：200903054868584546

水処理装置及び水処理方法

発明者： 小林 秀樹 ,  織田 信博
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社 ,  ペルメレック電極株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-069850
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145161
出願日： 2002年03月14日
公開日（公表日）： 2003年05月20日
要約：

【要約】【課題】 易分解性の過酸化水素の貯留、運搬、投入を必要とすることなく、過酸化水素と金属イオンとの反応でOHラジカルを生成させ、被処理水中の有機物質等の被酸化性成分を効率的に酸化分解する。【解決手段】 被酸化性成分を含む被処理水が導入される電解槽1と、この電解槽1内に配置されており、酸素を還元して過酸化水素を発生させる陰極2と、過酸化水素と反応してOHラジカルを生成させる金属イオンを溶出する金属よりなる陽極3とを有する水処理装置。この水処理装置の電解槽1に被処理水を供給し、電解により陰極2で発生する過酸化水素と、陽極3から溶出する金属イオンとの反応で生成するOHラジカルにより、被処理水中の被酸化性成分を酸化する水処理方法。

請求項（抜粋）：

被処理水中の被酸化性成分を酸化する水処理装置であって、該被処理水が導入される電解槽と、該電解槽内に配置されており、酸素を還元して過酸化水素を発生させる陰極と、該電解槽内に、過酸化水素と反応してOHラジカルを生成させる金属イオンを供給する手段とを有することを特徴とする水処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/461 ,  C25B 1/30 ,  C25B 11/06 ,  C25B 11/08 ,  C25B 11/12

FI (5件)：

C25B 1/30 ,  C25B 11/06 A ,  C25B 11/08 Z ,  C25B 11/12 ,  C02F 1/46 101 C

Fターム (51件)：

4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB18 ,  4D061DC06 ,  4D061EA04 ,  4D061EB04 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB28 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061ED06 ,  4D061ED12 ,  4D061FA14 ,  4D061FA16 ,  4K011AA02 ,  4K011AA04 ,  4K011AA15 ,  4K011AA16 ,  4K011AA17 ,  4K011AA18 ,  4K011AA21 ,  4K011AA22 ,  4K011AA23 ,  4K011AA30 ,  4K011AA48 ,  4K011AA67 ,  4K011AA68 ,  4K011AA69 ,  4K011BA04 ,  4K011BA06 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K011DA11 ,  4K021AB15 ,  4K021BA02 ,  4K021CA01 ,  4K021DA03 ,  4K021DA09 ,  4K021DA11 ,  4K021DA13 ,  4K021DA15 ,  4K021DB03 ,  4K021DB05 ,  4K021DB12 ,  4K021DB16 ,  4K021DB18 ,  4K021DB19 ,  4K021DB21 ,  4K021DB40