特許
J-GLOBAL ID:200903054872391183

高性能、高耐久性、低放射率ガラスおよびその製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 高城郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-117845
公開番号(公開出願番号):特開平6-171984
出願日: 1993年04月21日
公開日(公表日): 1994年06月21日
要約:
【要約】【目的】 熱分解被膜と同等の耐久性を持ち、最適な太陽光制御特性を有するスパッタ被膜形成ガラスを提供すること。また、低コストにて同ガラスを製造するための方法を提供すること。【構成】 スパッタ被膜形成ガラス製品は、ガラス基板と、その上に内側より外方へ向けて、Si3N4の下層、ニッケルまたはニッケル合金の第1層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の第2層、Si3N4の上層から成る層構造を有する。ガラス基板が約2mm〜6mmの厚さを有する時、通常放射率(En)は約0.12未満、半球放射率(Eh)は約0.16未満を有する。
請求項(抜粋):
ガラス基板はその上に内側より外方へ向けて、Si3N4の下層、ニッケルまたはニッケル合金の第1層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の第2層、Si3N4の上層から成る層構造を有し、ガラス基板が約2mm〜6mmの厚さを有する時、通常放射率(En)は約0.12未満、半球放射率(Eh)は約0.16未満を有することを特徴とするスパッタ被膜形成ガラス製品。
IPC (2件):
C03C 17/36 ,  E06B 5/00

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