特許

J-GLOBAL ID：200903054897523670

通過ガスの貯蔵および分注システム

発明者： ディーツ,ジェイムス ,  マクマナス,ジェイムス,ヴイ.
出願人/特許権者： アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-527335
公開番号（公開出願番号）：特表2002-500090
出願日： 1999年01月07日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：

【要約】物理的収着剤媒体(16)および物理的収着剤媒体(16)に吸着されたガスを保持するガス貯蔵および分注容器(12)を含み、ここに、キャリアガス、例えば、ヘリウム、水素、アルゴン等が容器(12)を通って、収着物ガスの脱着およびキャリアガス流への脱着されたガスの捕獲を行うガスの貯蔵および分注用の装置(10)。本発明の貯蔵および分注システム(10)を使用して、半導体デバイスの製造において、エピタキシャル薄膜形成およびイオンインプランテーションのような適用で使用の下流位置へ分注された収着物ガスを供給することができる。

請求項（抜粋）：

収着物流体の貯蔵および分注用装置であって、 固相物理収着剤媒体および収着物流体を含有する内部容量を有する貯蔵および分注容器、該収着剤媒体は該収着物流体に対して収着親和性を有し、該貯蔵および分注容器は容器からの収着流体の排出のための排出ポートを有し; 貯蔵および分注容器の内部容量とガス流連絡においてカップリングしたキャリアガス源と; 該キャリアガス源からキャリアガスを貯蔵および分注容器の内部容量を通って流して収着物流体/キャリアガス混合物を生じさせるための手段と;および 該ガス混合物を貯蔵および分注容器から分注する手段と;を含む収着物流体の貯蔵および分注用装置。

IPC (5件)：

B01J 4/00 101 ,  B67D 3/00 ,  F17C 7/00 ,  F17C 11/00 ,  H01L 21/265 603

FI (5件)：

B01J 4/00 101 ,  B67D 3/00 Z ,  F17C 7/00 A ,  F17C 11/00 A ,  H01L 21/265 603 Z

Fターム (20件)：

3E072AA01 ,  3E072DB03 ,  3E072EA02 ,  3E082AA10 ,  3E082BB10 ,  3E082DD05 ,  4G068AA01 ,  4G068AB01 ,  4G068AC05 ,  4G068AC16 ,  4G068AD39 ,  4G068AD42 ,  4G068AD49 ,  4G068AE01 ,  4G068AE10 ,  4G068AF01 ,  4G068AF12 ,  4G068AF14 ,  4G068AF19 ,  4G068AF31