特許
J-GLOBAL ID:200903054899094954
散乱測定装置とその測定方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-218292
公開番号(公開出願番号):特開平10-062240
出願日: 1996年08月20日
公開日(公表日): 1998年03月06日
要約:
【要約】【目的】 エキシマレーザーのサンプルに対する散乱を定量的に評価するに際し、測定値の再現性が良く、精度良く測定することが可能な散乱測定装置とその測定方法を提供する。【解決手段】基板上に形成された薄膜状のサンプル又は光学材料のサンプルに測定光を照射したときの散乱を積分球を用いて測定する散乱測定装置であって、前記測定光がエキシマレーザーであり、前記積分球の内壁がテトラフルオロエチレン(PTFE)からなることを特徴とする散乱測定装置。
請求項(抜粋):
基板上に形成された薄膜状のサンプル又は光学材料のサンプルに測定光を照射したときの散乱を積分球を用いて測定する散乱測定装置であって、前記測定光がエキシマレーザーであり、前記積分球の内壁がテトラフルオロエチレン(PTFE)からなることを特徴とする散乱測定装置。
IPC (3件):
G01J 1/02
, G01M 11/00
, G01N 21/47
FI (3件):
G01J 1/02 F
, G01M 11/00 T
, G01N 21/47 Z
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