特許
J-GLOBAL ID：200903054901707128
ビーム出射ユニット、微細加工方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-102066
公開番号（公開出願番号）：特開2001-283764
出願日： 2000年04月04日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：
【要約】【課題】 多層基板などの加工対象の多数の加工箇所を上方から迅速かつ正確に微細加工する。【解決手段】 液体保持容器210から液体の分子種を針状部材206の先端部分まで供給させ、引出電極202に負極の電圧を印加して分子種からトンネル効果により陽イオンをビーム状に発生させ、加速電極204に負極の電圧を印加して陽イオンを加速させる。イオンビームを下方に出射することができるので、加工対象の加工箇所を上方から微細加工することができる。
請求項（抜粋）：
液体の分子種を内部に保持する中空の液体保持容器と、この液体保持容器から前記分子種が先端部分まで順次供給される導電性の先鋭な針状部材と、この針状部材の先端部分を包囲して前記分子種からトンネル効果により陽イオンをビーム状に発生させる負極の電圧が印加される環状の引出電極と、この引出電極より前記針状部材の先端方向に位置して前記陽イオンを加速する負極の電圧が印加される加速電極と、を具備しているビーム出射ユニット。
Fターム (5件)：
5C034AA01
, 5C034AB01
, 5C034AB02
, 5C034AB04
, 5C034AB07
