特許

J-GLOBAL ID：200903054907783918

電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  白川 浩司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-142185
公開番号（公開出願番号）：特開2002-341538
出願日： 2001年05月11日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】 高感度かつ高解像度で、PEDの安定性に優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物(b)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(c)イオン化ポテンシャル(Ip)値がp-エチルフェノールのIp値より小さい値を示す化合物の残基を有し、酸に対して安定な低分子化合物(d)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物(b)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(c)イオン化ポテンシャル(Ip)値がp-エチルフェノールのIp値より小さい値を示す化合物の残基を有し、酸に対して安定な低分子化合物(d)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (11件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17