特許
J-GLOBAL ID：200903054909927585
成膜装置及び成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-204443
公開番号（公開出願番号）：特開平10-053500
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】 生成する薄膜の膜厚が均一になるようにすると共に、薄膜の界面の組成急峻性が良好になるようにする。【解決手段】 原料ガスを加熱して反応させるチャンバ11内には、チャンバ11の外部からチャンバ11の内部に原料ガスを供給するガス供給部12と、ガス供給部12のガス供給口12aと対向し、膜を成長させる基板13を保持する基板ホルダ14を備えている。基板ホルダ14の外側に位置するリング状の平坦な高速回転面を有する高速回転板16aと、該高速回転板16aの内周部と一体に且つ基板ホルダ14及びヒータ15を覆うように形成され、底部中央に開口部を有する凹状の覆い部16bと、該覆い部16bの開口部周縁から下方に延びるように一体に形成され、チャンバ11の底部に設けられている軸受部11aに気密に支持される筒状の回転軸16cとからなる回転部材16を備えている。
請求項（抜粋）：
供給される原料ガスを加熱して反応させる反応炉と、該反応炉の内部に設けられ、基板ホルダ面に基板を保持する基板ホルダと、該基板ホルダの基板ホルダ面に保持された基板に対して前記原料ガスを供給するガス供給手段とを備え、前記基板上に前記原料ガスよりなる結晶膜を成長させる成膜装置において、前記基板ホルダの外側に設けられ、該基板ホルダの周りを高速で回転する高速回転面を有する回転部材を備えていることを特徴とする成膜装置。
IPC (8件)：
C30B 35/00
, C23C 16/44
, C30B 25/14
, C30B 25/16
, C30B 29/40 502
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H01L 21/68
C30B 35/00
, C23C 16/44 H
, C30B 25/14
, C30B 25/16
, C30B 29/40 502 D
, H01L 21/205
, H01L 21/31 B
, H01L 21/68 N
