特許
J-GLOBAL ID:200903054921743368
パターン重ね合わせ精度測定装置および方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-038650
公開番号(公開出願番号):特開2002-246285
出願日: 2001年02月15日
公開日(公表日): 2002年08月30日
要約:
【要約】【課題】 従来の重ね合わせ測定では、ボックスマークの波形が非対称や凹凸を有した波形の場合、測定ポイントが変動し測定誤差となった。また、測定ポイントが一定しない虞があり測定の再現性が悪いという問題があった。【解決手段】 第1のボックスマークと第2のボックスマークの画像を取込み信号処理して得られた波形を用いて2つのボックスマークの相対位置を測定するパターン重ね合わせ精度測定において、各ボックスマークの両側の段差と対応する一対の波形のピーク値を比較判定し、高い方の波形を低い方の波形上に複写し、高い方の波形と複写した波形の上に測定ポイントを決定してパターンの位置ズレ量を測定する。
請求項(抜粋):
半導体デバイスの製造工程における前工程で形成したパターンと後工程で形成したパターンとの重ね合わせ精度測定として、前記前工程で形成された第1のボックスマークと前記後工程で形成された第2のボックスマークの対向する2辺の段差を画像処理して得られた波形を用いて前記2つのボックスマークの相対位置を測定するパターン重ね合わせ精度測定装置において、各ボックスマークの一対の段差と対応する波形のピーク値を比較判定し、高い方の波形を低い方の波形上に複写し、高い方の波形と複写した波形の上に測定ポイントを決定してパターンの位置ズレ量を測定する波形処理機能を有することを特徴とするパターン重ね合わせ精度測定装置。
IPC (5件):
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G01B 21/00
, G03F 9/00
, H01L 21/66
FI (7件):
G01B 11/00 A
, G01B 21/00 G
, G03F 9/00 H
, H01L 21/66 P
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 502 M
, H01L 21/30 520 C
Fターム (38件):
2F065AA03
, 2F065AA07
, 2F065AA12
, 2F065AA54
, 2F065BB02
, 2F065BB28
, 2F065CC20
, 2F065DD00
, 2F065QQ13
, 2F065QQ25
, 2F065QQ32
, 2F065UU05
, 2F069AA03
, 2F069AA06
, 2F069AA17
, 2F069BB15
, 2F069BB40
, 2F069CC07
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069JJ14
, 2F069JJ25
, 2F069NN10
, 2F069NN12
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106CA50
, 4M106DJ11
, 4M106DJ18
, 5F046EA04
, 5F046EA12
, 5F046EA13
, 5F046EB01
, 5F046EC05
, 5F046FA04
, 5F046FA10
, 5F046FC03
, 5F046FC04
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