特許
J-GLOBAL ID：200903054935653558
露光装置及び露光工程におけるアライメント方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-081135
公開番号（公開出願番号）：特開平6-273947
出願日： 1993年03月17日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 アライメント精度を損うことなくマスクを共通化することにより、各種製品を低コストで製造可能な露光装置及び露光工程におけるアライメント方法を提供する。【構成】 マスクを基板にアライメントして基板にパターンを露光する露光工程におけるアライメント方法において、前記基板10,20と前記マスク12,22,32の一方に予め第1〜第3の位置合せ用マーク13〜15,24〜26を形成し、他方に少なくとも第4の位置合せ用マーク16,23,33〜35を形成し、前記第1〜第4の位置合せ用マーク13〜16,23〜26,33〜35に基づいて前記マスク12,22,32または前記基板10、20を所定距離だけ移動してアライメントを行い、その都度前記基板10,20にパターンを露光することを特徴とする露光工程におけるアライメント方法。
請求項（抜粋）：
マスクと基板とを隙間を設けて配置し、マスクに位置合せ用マークを少なくとも1つ設け、基板に位置合せ用マークをパタ-ン間隔と異なる間隔で少なくとも3つ等ピッチ間隔に設け、かつ基板の位置合せ用マ-クのうちの少なくとも1つをマスクの位置合せ用マ-クとパターンとの相対位置関係と同一の位置関係に配置して、マスクの少なくとも1つの位置合せ用マークと、基板の少なくとも1つの位置合せ用マークとをファインアライメントし、露光する第1工程と、マスクまたは基板を移動させる第2工程と、マスクまたは基板を移動させた位置において、マスクの少なくとも1つの位置合せ用マ-クと、基板の少なくとも1つの位置合せ用マークとをファインアライメントし露光する第3工程とからなり、そのマスクの位置合せ用マ-クと基板の位置合せ用マークとを位置合せして露光することを特徴とする露光工程におけるアライメント方法。
IPC (4件)：
G03F 9/00
, G03B 27/02
, G03F 7/20 511
, H05K 3/00
