特許
J-GLOBAL ID:200903054944639002
ハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
酒井 昭徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-338941
公開番号(公開出願番号):特開2009-155619
出願日: 2007年12月28日
公開日(公表日): 2009年07月16日
要約:
【課題】反応系をゲル化させることなく、高度に分岐したハイパーブランチポリマーを合成できるハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物を提供すること。【解決手段】多官能ラジカル重合性単量体と一官能ラジカル重合性単量体とのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体を同時に加えて、ラジカル重合をおこなうようにした。多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体は、ラジカル重合に用いる一官能ラジカル重合性単量体全量のうち、一部の一官能ラジカル重合性単量体を混合した反応系に加える。また、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体の混合物を加えてもよい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1のモノマーと第2のモノマーとのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成するハイパーブランチポリマーの合成方法であって、
前記ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、前記第1および第2のモノマーを同時に加えて、前記ラジカル重合をおこなうことを特徴とするハイパーブランチポリマーの合成方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C08F220/00
, G03F7/039 601
Fターム (59件):
2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BF02
, 2H025BF11
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 4J100AB07P
, 4J100AB13Q
, 4J100AB16Q
, 4J100AE75Q
, 4J100AL03P
, 4J100AL04P
, 4J100AL08P
, 4J100AL10P
, 4J100AL62R
, 4J100AL63Q
, 4J100AL65Q
, 4J100AL92Q
, 4J100AM24Q
, 4J100AM55Q
, 4J100AN13Q
, 4J100AN14Q
, 4J100AP02Q
, 4J100AP07Q
, 4J100AP17Q
, 4J100AQ21Q
, 4J100AR17Q
, 4J100AR18Q
, 4J100AS01Q
, 4J100AS02Q
, 4J100AS03Q
, 4J100AS06Q
, 4J100AS07Q
, 4J100AS11Q
, 4J100AS13Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA04P
, 4J100BA08Q
, 4J100BA16P
, 4J100BA20P
, 4J100BA51Q
, 4J100BA55Q
, 4J100BA58Q
, 4J100BA65Q
, 4J100BA72P
, 4J100BB01P
, 4J100BB01Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC04P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC43P
, 4J100BC49P
, 4J100BC53P
, 4J100CA04
, 4J100CA25
, 4J100FA35
, 4J100FA37
, 4J100JA38
引用特許:
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