特許
J-GLOBAL ID：200903054948026315
シヤドウマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-299463
公開番号（公開出願番号）：特開平5-135690
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【構成】 シャドウマスク素材20に感光剤を塗布し乾燥して感光膜21を形成したのち、順次露光、現像、バーニング、エッチング工程を経てシャドウマスク素材に多数の電子ビーム通過孔8 を形成するシャドウマスクの製造方法において、感光膜の膜厚を5.0〜6.0μm とし、現像工程で液圧1kg/cm 2 以下、液流量1.5l/min 以下のスプレーにより膜厚の変化の少ないソフト現像をおこなうようにした。【効果】 現像工程での部分的な感光膜の膜厚の減少を軽減かつ未感光部の溶出量を少なくして、孔径のばらつきに基づく孔むらや孔形状の劣化を軽減できる。
請求項（抜粋）：
シャドウマスク素材に感光剤を塗布し乾燥して感光膜を形成したのち、順次露光、現像、バーニング、エッチング工程を経て、上記シャドウマスク素材に多数の電子ビーム通過孔を形成するシャドウマスクの製造方法において、上記感光膜の膜厚を5.0〜6.0μm とし、上記現像工程で液圧1kg/cm 2 以下、液流量1.5l/min 以下のスプレーにより上記膜厚の変化の少ないソフト現像をおこなうことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
